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當(dāng)前位置:首頁   >  產(chǎn)品中心  >  英國Radleys  >  Mya 4自動化反應(yīng)工作站  >  Radleys Mya 4進(jìn)口自動化反應(yīng)器工作站

進(jìn)口自動化反應(yīng)器工作站

簡要描述:Radleys Mya 4自動化反應(yīng)工作站可讓科學(xué)家在一臺設(shè)備上實現(xiàn)對4個反應(yīng)的安全地加熱、實時冷卻、軟件控制和數(shù)據(jù)記錄功能,可用于進(jìn)行24小時/7天無人值守的實驗。

  • 產(chǎn)品型號:Radleys Mya 4
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2024-04-28
  • 訪  問  量:3362

詳細(xì)介紹

品牌其他品牌產(chǎn)地類別進(jìn)口
應(yīng)用領(lǐng)域化工

一臺具備4個操作位點、提供安全、準(zhǔn)確地加熱、實時冷卻、軟件控制和數(shù)據(jù)記錄的24小時/7天無人值守的自動化化學(xué)儀器。

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一臺儀器,無限可能


4個獨立操作位點 磁力&機械攪拌 2ml~400ml
4-Positions-600x600.png Stirring-600x600.png Vessel-Range-600x600.png

兼具加熱、冷卻功能

每個位點可以獨立操作

標(biāo)配磁力攪拌功能

可選配強勁的Mya頂置式機械攪拌器
兼容廣泛的反應(yīng)瓶樣式和體積

自動化&數(shù)據(jù)記錄 -30~180℃ 控制第3方設(shè)備
Data-Logging-600x600.png Heating-and-cooling-600x600.png 3rd-Party-Integration-600x600.png

軟件控制

進(jìn)行24小時/7天無人值守的化學(xué)實驗

模塊控溫、樣品控溫
相鄰位點間溫差可達(dá)200℃

電腦版軟件可控制:注射泵、蠕動泵、

pH計、真空泵等多種第3方設(shè)備


靈活多用

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更安全、更清潔、更環(huán)保、更高效

  • 4個獨立操作位點,標(biāo)配加熱、實時冷卻功能

  • 緊湊型設(shè)計,適用于多種實驗應(yīng)用

  • 兼容多種多樣尺寸和形狀的反應(yīng)容器

  • 程序化控制您的實驗,實時自動記錄實驗數(shù)據(jù)

  • 準(zhǔn)確地溫度控制

  • 磁力攪拌,機械攪拌

  • 取代低效、雜亂和不安全的油浴、干冰浴

  • 更加節(jié)省實驗室空間

  • 兼容第3方設(shè)備:天平、泵和pH計等

  • 軟件控制,提高安全性,減少人為錯誤

  • 24小時/7天無人值守運行,提高效率




主要特點



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歧管型 或 回流型 機頭


  • 水冷式

  • 內(nèi)置氣體回路,可用于填充惰性氣體

  • 歧管型機頭:

    將冷卻水分配至每個獨立的冷凝管

    標(biāo)配截止閥,防止倒流

  • 回流型機頭:

    直接對回流管內(nèi)的蒸汽進(jìn)行冷凝

  • 無需外接冷凝管,便于使用


磁力攪拌 或 機械攪拌


  • 標(biāo)配磁力攪拌功能:100~1000rpm

  • 可選配Mya頂置式機械攪拌器

  • 強勁地攪拌

  • 轉(zhuǎn)速范圍:100~1000rpm

  • 無需工具即可安裝

  • 每個位點的轉(zhuǎn)速獨立控制

  • 相鄰位點可分別使用磁力攪拌或機械攪拌,互不影響


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可選多種多樣尺寸和形狀的反應(yīng)容器


從2ml~400ml,樣品瓶、試管、圓底燒瓶和過程釜體


  • 樣品瓶和試管:2ml~20ml

  • 圓底燒瓶:25~250ml

  • 過程釜體:50~400ml

  • 多口釜蓋:3口或5口

  • 其他配件


Mya 4控制選項


24小時/7天無人值守地進(jìn)行您的實驗,可選的操作系統(tǒng):

  • 觸摸控制面板:儀器標(biāo)配

  • 選的PC控制軟件:用于控制第3方設(shè)備





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根據(jù)您的需求配置Mya 4



您可以靈活地配置Mya 4的各類配件,用以適配您的各類實驗


  • 選擇歧管型或回流型機頭,或者不使用機頭

  • 選擇反應(yīng)容器的形狀和尺寸

  • 選擇跟反應(yīng)容器適配的插件

  • 選擇多口釜蓋或者回流管

  • 選擇頂置式機械攪拌器、攪拌槳或者磁力攪拌子

  • 選擇其他配件(溫度探針、玻璃配件等)

  • 選擇PC控制軟件




工藝套裝

小試套裝

其他配置

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配置:歧管式機頭

過程釜體

 

配置:回流式機頭

圓底燒瓶

 

配置:

樣品瓶和試管


靈活多用,廣泛適用于從小試研發(fā)到工藝開發(fā)的眾多實驗應(yīng)用

  • 工藝開發(fā)

  • DOE實驗

  • 實驗放大

  • 結(jié)晶研究

  • 晶型篩選

  • 先導(dǎo)物研究

  • 平行實驗

  • 實驗優(yōu)化

  • 溶劑、催化劑篩選

  • 路線研究


小結(jié)
4個獨立操作位點

——可同時使用1,2,3或4個位點

——平行操作4個位點,或由多個使用者分別獨立操

準(zhǔn)確地溫度控制

——溫度控制范圍:-30~180℃

——相鄰位點間溫差可達(dá)200℃

——每個位點的溫度獨立控制

——可選擇控制模塊溫度或樣品溫度

使用自來水或冷水機

——Mya 4使用*進(jìn)的半導(dǎo)體制冷技術(shù),可快速制冷至-30℃

——半導(dǎo)體芯片需要自來水或冷水機來帶走熱端熱量,以持續(xù)制冷



冷卻源 自來水(15℃) 冷水機(5℃)

最di模塊溫度 -25℃ -35℃

最di樣品溫度 -20℃ -25℃


磁力攪拌或機械攪拌

——標(biāo)配磁力攪拌功能,轉(zhuǎn)速范圍:100~1000rpm

——可選配Mya頂置式機械攪拌器,轉(zhuǎn)速范圍:100~1000rpm

——每個位點的轉(zhuǎn)速獨立控制

——相鄰位點可分別使用磁力攪拌或機械攪拌,互不影響






 

 

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